上个月，A股光刻机概念板块经历了一场急涨后的回调。节后首个交易日，这一跌势还在继续。10月9日早盘，A股光刻机概念板块探底拉升后再次下跌，前期热门股苏大维格（300331.SZ）开盘跌超13%，盘中一度遭遇“20CM”跌停。
截至10月9日收盘，苏大维格股价下跌5.99%，报收25.25元，较9月15日最高点（38.88元）下跌35%，勉强守住半年线。苏大维格急跌的背后，不仅仅是光刻机概念的降温；苏大维格要面临的，也不只是股价的变化。
早在9月15日，一则来自深交所的关注函已然就苏大维格是否存在违反信息披露公平性原则的情形展开问询。在最新的回复中，苏大维格也承认“公司证券部门在回复相关互动易问题时，直接使用了“光刻机”、“龙头芯片公司”等可能引起误解的表述，引起了部分投资者误会和误解，并导致公司股价发生较大波动。”
其中包括，未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，未详细说明公司光刻设备的具体类型，公司主要的应用领域，与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信息，也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。对此，公司向投资者表示歉意。
10月8日，苏大维格收到中国证监会出具的《立案告知书》和《调查通知书》，因公司涉嫌信息披露违法违规，中国证监会决定对公司立案调查。
此“光刻机”非彼“光刻机”
2001年左右，苏大维格开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压印设备等。而此次事情的起因，要从苏大维格针对公司光刻业务的一次回复说起。
2023年9月14日午间，苏大维格于互动易回复投资者提问时表示“公司光刻机以实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”，并提及“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局”。
彼时的A股光刻机概念正被热炒，投资者很快捕捉到这一信息。当日午间开盘后，公司股价大幅拉升并触及涨停。甚至第二日（9月15日），在收到监管关注函后，苏大维格股价也持续走高，最高拉至38.88元，两个交易日内最高股价上涨40.87%。截至9月15日收盘，公司股价报35元，两个交易日累计上涨约35%，市值上涨约24亿元。
然而，很快便有投资者提出质疑，苏大维格的光刻设备对比全世界同行业处于什么阶段？未来有没有和国内同行合作研发制造光刻机计划？深交所也在关注函中问及不同类型光刻设备的技术路线的差异，公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及是否能够直接用于芯片研发及制造等。
对此，苏大维格在10月8日公布的回复函中进行了明确。
具体来看，光刻技术是现代半导体、显示面板、光电子等领域的产品制造过程中不可或缺的工艺流程之一。从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机（在运行过程中均需要使用掩模板），包括接触式/接近式光刻机，投影式光刻机（如DUV和EUV）等；以及无掩模光刻机，即直写光刻机，包括电子束光刻机、激光直写光刻机、激光直接成像设备（LDI）等。半导体及平板显示制造普遍采用“直写光刻制作掩模+投影光刻批量复制”的工艺过程。
简言之，一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，但苏大维格所生产的激光直写光刻机主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造，与前述光刻机不属于同一技术路线，所生产的光刻设备目前并不涉及集成电路领域相关产品的生产。
“龙头芯片公司”也表述有误
此前引发市场热点的原因不仅是因为苏大维格提到公司有“光刻机”，还点出“已向国内龙头芯片企业销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”。
而关于这一点，苏大维格也在回复监管时进行了更正。
首先，公司明确表示集成电路领域相关产品的生产这部分的市场已被行业龙头公司主导和垄断，而自身的激光直写光刻设备在最小线宽、线宽均匀度、网格精度、稳定性等关键技术参数与同行业龙头公司相比存在较大差距。
不仅光刻的技术路线不同，技术与龙头存在差距，相关产品对外销售量也不大。
苏大维格表示，自己开发生产的激光直写光刻设备是一种多用途的设备，目前主要是自用，公司对外销售的金额较小。
根据财报数据，2022年，受显示面板行业不景气，反光材料市场竞争加剧等因素影响，公司实现营业收入17.16亿元，同比下降1.21%，归母净利润亏损2.79亿元，扣非后归母净利润亏损高达3.12亿元。其中，公司激光直写光刻设备对外销售收入仅有约770.93万元。
2023年上半年，苏大维格实现营业收入7.88亿元，同比下滑10.47%，净利润1217.69万元，其中实现激光直写光刻设备对外销售收入约2177.27万元，外销收入占公司整体销售收入的比重不足3%。
客户方面，则也主要集中于教育领域，包括高校和科研院所，用作相关领域的研究；以及除高校和科研院所外的其他客户，主要用于其部分产品的研发及小批量试制、微纳光学材料及光通讯器件的制作等领域。
此外，公司纳米压印技术在集成电路领域也存在挑战。
从国际领先厂商相关技术进展看，虽然纳米压印技术在成本和处理上具有一定优势，但目前多停留在实验或验证阶段，要实现高端芯片的生产还面临着模板结构均匀性与分辨率、缺陷率控制、模板寿命、压印胶材料、模具定位和套刻精度等许多挑战，能否成功应用尚无定论。
苏大维格虽然拟对上述领域应用进行初步尝试，但目前公司纳米压印光刻技术在集成电路领域与早有相关布局的行业龙头公司相比，在分辨率等部分关键参数上存在数量级的差距。“公司期望通过持续的研发，逐步缩小与国外龙头公司的差距，结果存在较大不确定性。”
